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盛美上海：今年4月，公司首台PECVD SiCN设备已经顺利出机

2026-06-18 23:15 来源：证券日报网

证券日报网6月18日讯，盛美上海在接受调研者提问时表示，今年4月，公司首台PECVD SiCN设备已经顺利出机，该设备在盛美上海临港实验室已验证满足工艺指标，现发往客户端进行最终验证。该平台在单一反应腔内配置了三个工艺工位（专利申请保护中），采用旋转沉积的方式，每个工位完成总膜厚三分之一的沉积。这种设计能够实现对界面层形成、气流管理及薄膜均匀性的更精确控制。此外，盛美“一工位一射频”控制软件技术，通过每个工位独立的射频系统实现对等离子体的独立控制，大幅提升工艺的稳定性与一致性。该设备旨在支持55纳米及以下高端IC工艺的后段金属互联工艺应用中的PECVD NDC （SiCN）工艺，应用场景包括铜氧化抑制、铜扩散阻挡层及刻蚀停止层。

（编辑姚尧）

-证券日报网

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