首页

国林科技：半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧

2026-02-02 17:43 来源：证券日报网

证券日报网讯 2月2日，国林科技在互动平台回答投资者提问时表示，公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧，臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中，臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求，从而实现纳米级均匀氧化层的形成。

（编辑王雪儿）

-证券日报网

热点新闻

24小时排行一周排行

深度策划

2025证劵市场年会

年会聚焦当前资本市场深化改革与机制创新……[详情]

市场快讯

19:29	波长光电：公司未披露2025年度业绩...
19:29	博威合金：项目谈判期间，相关的交...
19:29	恒达新材：回购公司股份455200股
19:29	湖南投资：截至2026年1月30日股东...
19:29	华联控股：公司目前经营正常
19:29	淮河能源：公司将严格执行既定的现...
19:29	淮河能源：目前不存在应披露而未披...
19:29	汇得科技：聚氨酯产业下游运用广泛...
19:29	润丰股份：已于2026年1月20日召开...
19:29	山东海化：化工行业具有明显的周期...
19:29	山西汾酒：二级市场股价受多重因素...
19:29	水发燃气：主要是销售对象为GE公司

互联网新闻信息服务许可证 10120240020增值电信业务经营许可证京B2-20250455

京公网安备 11010602201377号京ICP备19002521号

证券日报网所载文章、数据仅供参考，使用前务请仔细阅读法律申明，风险自负。

证券日报社电话：010-83251700网站电话：010-83251800

网站传真：010-83251801电子邮件：xmtzx@zqrb.net