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拓荆科技：公司ALD设备已在存储芯片、逻辑芯片及先进封装等领域广泛应用

2026-07-17 20:28 来源：证券日报网

证券日报网讯 7月17日，拓荆科技在互动平台回答投资者提问时表示，公司ALD系列产品包括PE-ALD（等离子体增强原子层沉积）和Thermal-ALD（热处理原子层沉积）设备产品，可沉积多种介质、金属及金属化合物等薄膜，不同ALD工艺所采用的反应源不同，包括但不限于臭氧。公司ALD设备已在存储芯片、逻辑芯片及先进封装等领域广泛应用。

（编辑袁冠琳）

-证券日报网

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